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工信部公開推廣兩款國產DUV光刻機!最小套刻≤8nm!多只光刻機概念股走強

每日經濟新聞 2024-09-19 13:27:09

每經記者 朱成祥    每經編輯 孫志成 梁梟    

9月9日,工信微報微信公眾號發文披露《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》。其中,在電子專用設備一欄,氟化氪光刻機、氟化氬光刻機位列其中。該資料顯示,氟化氬光刻機具有65納米以下的分辨率和8納米以下的套刻精度

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據東興證券研報,光刻機可分為直寫光刻機與掩膜光刻機,市場主流有i-Iine(汞線)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氬)、ArFi(浸潤式氟化氬)、EUV(極紫外)五大類。

此次入選推廣目錄的氟化氬光刻機,應屬于干式ArF光刻機。在具體指標上,與ASML旗下TWINSCAN NXT:1470以及TWINSCAN XT:1460K類似。

按照市場監管總局等5部門于今年4月聯合印發的《中國首臺(套)重大技術裝備檢測評定管理辦法(試行)》,重大技術裝備是國之重器,事關綜合國力和國家安全。中國首臺(套)重大技術裝備,是指國內實現重大技術突破、擁有知識產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品,包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。

CFF20LXzkOwNfsay86cib4p0S2T0NfBIZicSMl7tYnKBaibmLibs8uIQI1mZYasibU5KFf6wlMM5EENdMic3ibFTHCmUw.png國產光刻機實力幾何?

據工信微報發文,此次指導目錄是為促進首臺(套)重大技術裝備創新發展和推廣應用,加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同

具體來看,氟化氪光刻機晶圓直徑為300mm(12英寸);照明波長為248mm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

相比之下,阿斯麥(ASML)的氟化氪光刻機型號有TWINSCAN NXT:870、TWINSCAN XT:860N和TWINSCAN XT:860M。這三個型號,波長均為248mm;分辨率≤110nm。

而指導目錄中更為先進的氟化氬光刻機,其照明波長為193mm,分辨率≤65nm;套刻≤8nm

這一數據與ASML旗下TWINSCAN XT:1460K最為接近。該型號照明波長為193mm,分辨率≤65nm。此外,該系統可以在偏振照明下實現低至57nm的生產分辨率。

相比之下,ASML浸潤式光刻機TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。據民生證券研報,該型號可實現2.5nm的套刻精度(MMO)。

據東海證券援引ASML官網數據,2023年各類光刻機均價為EUV(17386萬歐元)、ArFi(7196萬歐元)、ArFdry(2742萬歐元)、KrF(1192萬歐元)、i-Iine(399萬歐元)。

東海證券認為,目前光刻機國產化率僅為2.5%,整機技術與海外差距較大,短期5~10年內一方面重點發展90nm、28nm光刻機的研發量產較為關鍵,一方面重點布局國內半導體零組件發展。

CFF20LXzkOwNfsay86cib4p0S2T0NfBIZicSMl7tYnKBaibmLibs8uIQI1mZYasibU5KFf6wlMM5EENdMic3ibFTHCmUw.png光刻機產業鏈亟須發展

東海證券稱,根據中國國際招標網信息,半導體設備招標中,刻蝕、沉積等核心設備的國產化率獲得了較大的提升,核心在于技術上我國相關企業已經逐步追趕上海外企業;但光刻機作為核心設備,國產化率不足3%,核心原因在于零組件供應與整機技術與海外差距較大。

9月18日,東方財富概念板塊中,光刻機(膠)板塊排名靠前,板塊整體漲幅達2.47%。其中,同飛股份、波長光電均收獲“20厘米”漲停;新萊應材上漲12.40%。此外,張江高科、海立股份、凱美特氣等也漲停。

9月19日,光刻機概念持續活躍,凱美特氣、海立股份雙雙漲停,張江高科漲超6%,波長光電、京華激光、蘇大維格等跟漲。

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張江高科受關注,主要因為其曾投資上海微電子公司。張江高科于9月10日在投資者交流平臺表示,公司通過子公司上海張江浩成創業投資有限公司投資了上海微電子公司2.23億元,持有上海微電子10.779%的股權,后續未增持或減持。

東興證券稱,國內企業中,上海微電子是目前中國第一家也是唯一家光刻機巨頭,出貨量已占國內市場份額超過80%,產品主要涉及ArF、KrF和i-line領域,其已具備90nm及以下的芯片制造能力。

光刻機零部件方面,同飛股份曾在2023年中報表示,其液體恒溫設備在半導體制造設備領域,主要應用于光刻機、刻蝕機、研磨拋光機等關鍵設備的溫度控制。

不過,根據東興證券研報,光刻機核心組件包括光源系統、雙工作臺、物鏡系統、對準系統、曝光系統、浸沒系統、光柵系統等。配套設施包括光刻膠、掩膜版、涂膠顯影等。

光源系統方面,據華金證券,針對準激光光源,科益虹源主要研發248nm準分子激光器、干式193nm準分子激光器等;福晶科技研發KBBF晶體。

另據東興證券,波長光電為國內激光光學元件的主要供應商,目前,公司已具備提供光刻機配套的大孔徑光學鏡頭的能力,公司成功開發的光刻機平行光源系統可用于國產光刻機領域配套。

波長光電也曾于2023年9月15日披露投資者活動記錄表稱,公司在半導體領域主要涉及兩個領域:一個是生產領域,即曝光機、光刻,公司可提供大口徑光學鏡頭用于檢測,做折反、投射,還可以提供平行光源系統;另一個是檢測領域,公司可提供檢測設備上的光學元件、組件,也可為客戶定制開發、裝調子系統。

物鏡系統方面,東興證券稱,茂萊光學光刻機曝光物鏡超精密光學元件加工技術已實現產業化。

東海證券研報顯示,中國2023年進口光刻機數量高達225臺,進口金額高達87.54億美元,進口金額創下歷史新高,預計3年至5年內我國光刻機主要依賴進口。一臺先進的光刻機有多達10萬個零部件,整體來看我國半導體零組件的國產化率非常低,盡管在各個賽道均有相關的國有企業在不斷發展,距離海外企業依然有較大的差距,同時也預示著國內零組件企業公司有較大的發展機遇。

免責聲明:本文內容與數據僅供參考,不構成投資建議,使用前請核實。據此操作,風險自擔。

記者|朱成祥

編輯|||孫志成?梁梟?杜波

校對|何小桃

封面圖自視覺中國(圖文無關)

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