亚洲永久免费/亚洲大片在线观看/91综合网/国产精品长腿丝袜第一页

每日經濟新聞
互動

每經網首頁 > 互動 > 正文

華海清科:公司化學機械拋光(CMP)裝備實現了多晶硅、二氧化硅、氮化硅、氧化鋁等介質層全面覆蓋

每日經濟新聞 2024-12-23 19:50:22

每經AI快訊,有投資者在投資者互動平臺提問:在集成電路制造過程中不同拋光環節的拋光模塊需要應對不同的介質,請問公司拋光模塊能夠應用的介質層包含哪些?

華海清科(688120.SH)12月23日在投資者互動平臺表示,尊敬的投資者您好!公司化學機械拋光(CMP)裝備實現了多晶硅、二氧化硅、氮化硅、氧化鋁等介質層全面覆蓋。感謝您對公司的關注。

(記者 王可然)

免責聲明:本文內容與數據僅供參考,不構成投資建議,使用前核實。據此操作,風險自擔。

如需轉載請與《每日經濟新聞》報社聯系。
未經《每日經濟新聞》報社授權,嚴禁轉載或鏡像,違者必究。

讀者熱線:4008890008

特別提醒:如果我們使用了您的圖片,請作者與本站聯系索取稿酬。如您不希望作品出現在本站,可聯系我們要求撤下您的作品。

歡迎關注每日經濟新聞APP

每經經濟新聞官方APP

0

0