每經記者 朱成祥    每經編輯 梁梟    

3月27日，在SEMICON China 2025展會現場，深圳新凱來工業機器有限公司（以下簡稱新凱來）的展位頗受關注。這家半導體裝備廠商覆蓋半導體制造多個核心流程的工藝裝備、量檢測裝備矩陣。

半導體設備的研發并非一朝一夕之功，而新凱來已經形成產品矩陣，滿足邏輯、DRAM（內存）、NAND（閃存）產品的制造，并支持PlanarFET（場效應晶體管）、FinFET（鰭式場效應晶體管）向GAAFET（全環繞柵極晶體管）工藝演進。

圖片來源：每經記者 朱成祥 攝

“工藝裝備”多品類產品矩陣

根據頭豹研究院，半導體設備可分為前道設備和后道設備，前道設備主要用于晶圓制造，涉及硅片加工、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、清洗、拋光、金屬化等工藝，所對應的核心專用設備包括光刻設備、刻蝕設備、清洗設備、離子注入設備、薄膜沉積設備、機械拋光設備、測量設備等，其中光刻設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備是半導體前道生產工藝中的三大核心設備。

根據國際半導體產業協會（SEMI），前道設備（晶圓制造）投資量占半導體設備投資量約80%，封裝和測試設備占比分別約為10%和8%。在晶圓制造設備中，刻蝕設備、薄膜沉積設備和光刻機分別占前道設備價值量的22%、22%和17%。

此次新凱來推出的“工藝設備”中，就包括刻蝕設備和薄膜沉積設備。新凱來將其刻蝕設備命名為“武夷山”，產品包括武夷山1號、武夷山3號和武夷山5號。

其薄膜設備覆蓋了CVD（化學氣相沉積）、PVD（物理氣相沉積）和ALD（原子層沉積）三大主要薄膜沉積設備。其中CVD有長白山1號和長白山3號；PVD有普陀山1號、普陀山2號和普陀山3號；ALD有阿里山1號、阿里山2號和阿里山3號。

除了兩大核心設備外，新凱來也推出外延生長設備（EPI）和RTP（快速熱處理設備），EPI包括峨眉山1號、峨眉山2號和峨眉山3號；RTP包括三清山1號、三清山2號和三清山3號。

SEMICON China 2025展會現場 圖片來源：每經記者 朱成祥 攝

突破薄弱環節，推出多種量測產品

根據頭豹研究院，整體上，我國在去膠、清洗、刻蝕設備方面國產化率較高，在CMP、熱處理、薄膜沉積上近幾年國產化突破明顯，而在量測、涂膠顯影、光刻、離子注入等設備上，仍較為薄弱。

此次新凱來推出的產品中，光學量測產品包括天門山DBO（衍射套刻量測）、天門山IBO（圖形套刻量測）；PX（物理和X射線）量測產品包括沂蒙山AFM（原子力顯微鏡量測）、赤壁山XP XPS（X射線光電子能譜量測）、赤壁山XD XRD（X射線衍射量測）和赤壁山XF XRF（X射線熒光光譜量測）；功率檢測產品包括RATE-CP（晶圓電性能檢測）、RATE-KGD（功率Die電性能檢測）和RATE-FT（功率單管和模組電性能電測）。

值得一提的是，此次新凱來推出的EPI，也是國內半導體設備龍頭中微公司、北方華創的發力方向。

北方華創（002371.SZ，股價415.9元，市值2220.5億元）2023年年報顯示：“外延（EPI）設備是材料生長的關鍵設備，廣泛應用于集成電路、功率半導體、化合物半導體等領域。截至2023年底，北方華創已發布20余款量產型外延設備，累計出貨超1000腔。公司自主研發的12英寸常壓硅外延設備，實現了對邏輯芯片、存儲芯片、功率器件及特色工藝的全覆蓋，且已全部成功量產，成為客戶的基線產品。”

中微公司（688012.SH，股價184.31元，市值1147.08億元）早在2023年2月的投資者關系活動記錄表中就表示：“（公司）有超過十年做單晶硅外延設備的經驗，所以我們現在緊鑼密鼓開發在硅和鍺硅方面在集成電路需要的EPI設備。因為我們有長足的薄膜設備經驗，我們有信心能開發出很好的EPI設備。”另據中微公司2024年業績快報：“公司EPI設備已順利進入客戶端量產驗證階段。”

此外，中微公司也在積極拓展量檢測業務。中微公司2024年12月公告顯示：“隨著微觀器件越做越小，檢測設備也成為更關鍵的設備，市場增長速度很快，成為占半導體前道設備總市場約11%的第四大設備門類。檢測設備市場主要分為光學檢測設備和電子束檢測設備，其中公司已通過投資布局了光學檢測設備板塊，而超微公司（中微公司控股子公司）計劃開發電子束檢測設備，將不斷擴大對多種檢測設備的覆蓋。電子束量檢測設備是芯片制造和先進封裝工藝過程良率控制的關鍵設備，對我國發展以人工智能為代表的新質生產力至關重要，是我國的短板之一，亟待實現零的突破。”